Último caso da empresa sobre Guangzhou Cleanroom Construction Co., Ltd. Certificações

Em indústrias de ponta, como fabricação de semicondutores, biomedicina e eletrônica de precisão, a estabilidade ambiental de salas limpas determina diretamente o rendimento do produto, a consistência do processo e a confiabilidade da pesquisa.

Para atender aos requisitos de controle cada vez mais rigorosos, oMAU + FFU + DCC (Unidade de Ar de Composição + Unidade de Filtro de Ventilador + Unidade de Serpentina Seca)a arquitetura tornou-se a solução principal para salas limpas modernas. Através do tratamento de ar em camadas e da coordenação inteligente, este sistema consegue um controle preciso detemperatura, umidade, limpeza e pressão, ao mesmo tempo que melhora significativamente a eficiência energética e a flexibilidade operacional. Este artigo explica sistematicamente as principais tecnologias de controle por trás do sistema MAU + FFU + DCC e ilustra como a coordenação multidimensional cria um ambiente de sala limpa estável e de alto desempenho.

O sistema MAU + FFU + DCC adota umestratégia hierárquica de tratamento de ar, onde cada subsistema executa uma função dedicada:

• Regulação primária de temperatura e umidade
• Filtragem multiestágio G4 + F8
• Fornecimento estável de ar externo condicionado

• Filtragem HEPA ou ULPA
• Entrega de fluxo de ar unidirecional
• Suporta ambientes ISO Classe 5 a ISO Classe 1

• Corte de temperatura local
• Compensação rápida para cargas de calor do equipamento
• Garante distribuição uniforme da temperatura ambiente

Juntos, isso“Pré-processamento → Purificação → Controle Fino"A arquitetura oferece maior precisão, flexibilidade e eficiência energética do que os sistemas HVAC centralizados tradicionais.

A flutuação de temperatura é um risco crítico na fabricação de precisão. Na litografia de semicondutores, por exemplo, um desvio de apenas0,1ºCpode afetar o alinhamento do padrão.

O sistema MAU + FFU + DCC alcança controle de temperatura em vários níveis:

MAU – Regulamento Primário

• Controle PID adaptativo de serpentinas de aquecimento e resfriamento
• Estabilidade da temperatura do ar fresco dentro±0,5°C
• Resposta dinâmica para carregar alterações

FFU – Otimização do fluxo de ar

• Layout de matriz uniforme
• Velocidade facial típica:0,3–0,5m/s
• Reduz a estratificação térmica e pontos de acesso locais

DCC – Compensação de calor em tempo real

• Visa o calor de ferramentas de litografia, biorreatores e equipamentos de gravação
• Ajusta o fluxo de água gelada instantaneamente
• Mantém a uniformidade da temperatura ambiente dentro±0,2°C

Referência de caso
Uma fábrica de semicondutores de 12 polegadas alcançada±0,1°Cestabilidade da sala após a implementação do controle coordenado MAU-DCC, melhorando o rendimento da litografia em aproximadamente3%.

A umidade afeta diretamente a descarga eletrostática, a corrosão, o crescimento microbiano e a estabilidade do processo.

MAU – Ajuste Principal de Umidade

• Umidificadores a vapor ou eletrodo
• Condensação ou desumidificação rotativa
• Precisão de controle de até±2% UR

Exemplo:As oficinas de liofilização normalmente exigem30–40% URpara evitar a absorção de umidade.

FFU – Distribuição Uniforme

• Elimina zonas estagnadas e cantos mortos
• Evita o acúmulo local de alta umidade

Coordenação MAU + DCC

• MAU controla a umidade absoluta
• DCC ajusta a temperatura da bobina
• Temperatura da superfície da bobina mantida1–2°C acima do ponto de orvalhopara evitar condensação

A limpeza continua sendo o principal indicador de desempenho de qualquer sala limpa.

Pré-filtração MAU

• Filtro primário G4
• Filtro F8 de média eficiência
• Remove partículas grandes e protege a vida útil do FFU

Filtragem Terminal FFU

• HEPA: ≥99,97% @ 0,3 μm
• ULPA: ≥99,999% @ 0,12 μm
• Suporta ISO Classe 5 e superior

Organização do fluxo de ar

• Fluxo unidirecional vertical
• Cobertura FFU:60–100%
• Cria um efeito de pistão estável, empurrando os contaminantes para as grades de retorno de ar

Referência de desempenho
No0,45m/svelocidade do fluxo de ar, concentração de partículas ≥0,5 μm pode ser reduzida para
<35 partículas/ft³ (ISO Classe 5).

A pressão positiva garante que as áreas limpas permaneçam protegidas contra contaminação externa.

Controle de volume de ar fresco (MAU)

• Sensores de pressão diferencial monitoram a pressão ambiente
• Diferença de pressão típica:10–30 Pa

Zoneamento Hierárquico

• Entre as áreas ISO Classe 5 e ISO Classe 7
• Gradiente de pressão:5–10 Pa

Proteção de Emergência

• Alarmes automáticos acionados por queda de pressão
• Ventiladores de backup são ativados imediatamente
• Evita a contaminação durante condições anormais

Os sistemas modernos MAU + FFU + DCC integram automação inteligente para precisão e eficiência.

• Monitoramento em tempo real de mais de 30 parâmetros
• Análise de tendências e armazenamento de dados históricos
• Visualização centralizada do sistema

Quando uma ferramenta de alta carga inicia a operação, o sistema automaticamente:

• Aumenta a capacidade da serpentina de resfriamento
• Aumenta a saída DCC
• Restaura a estabilidade ambiental dentro10 segundos

Monitoramento contínuo de:

• Corrente do motor FFU
• Queda de pressão do filtro
• Desempenho da bobina DCC

Permite a detecção precoce de:

• Envelhecimento motor
• Filtro entupido
• Resistência anormal ao fluxo de ar

A otimização baseada em IA regula:

• Quantidade operacional FFU
• Proporção de ar fresco
• Correspondência de carga de temperatura e umidade

Resultando em20–30% de economia de energia, especialmente em grandes fábricas de semicondutores.

• MAU:teste do inversor, resistência do filtro, resposta T/H
• UFF:uniformidade do fluxo de ar (±10%), teste de vazamento HEPA, ruído ≤65 dB
• DCC:precisão do fluxo de água (±5%), verificação de troca de calor

• Condições extremas simuladas
• Contadores de partículas de alta precisão (0,1 μm)
• Mais de 50 pontos de monitoramento com registro de 10 segundos

• Controle variável de FFU durante operação com carga parcial
• Ciclos típicos de substituição de filtro:
  • Primário: 1–3 meses
  • Médio: 6–12 meses
  • HEPA: 2–3 anos

OMAU + FFU + DCCO sistema de sala limpa representa uma transição da conformidade básica para um controle ambiental inteligente e enxuto.

Por meio do gerenciamento coordenado de temperatura, umidade, limpeza e pressão — apoiado por automação avançada e análise preditiva — essa arquitetura oferece a estabilidade e a precisão necessárias para a fabricação de semicondutores, biotecnologia e outras aplicações de ponta.

Como fornecedor profissional de soluções de engenharia para salas limpas, oferecemos:

• Projeto do sistema
• Seleção de equipamentos
• Integração de controle inteligente
• Comissionamento e otimização
• Suporte completo ao ciclo de vida

Se você estiver planejando ou atualizando uma sala limpa de alta precisão, nossa equipe de engenharia está pronta para ajudá-lo a alcançardesempenho de controle ambiental de classe mundial.